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Chemical Vapour Deposition
Precursors, Processes and Applications
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Beschreibung
Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Spezifikationen
Sprache
- Englisch
Autor
- Anthony C Jones
- Michael L Hitchman
Zielgruppe
- Postgraduate
- Research & Scholarly
Erscheinungsjahr
- 2008
Format
- Buch (Hardcover)
Anzahl Seiten
- 600